| 品牌 | 昊量光電 | 價格區間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 組件類別 | 光學元件 | 應用領域 | 綜合 |
| 材料 | CaF2氟化鈣單晶 | 透射范圍 | 130 nm至9 μm |
| 折射率 | nd = 1.43384 | 阿貝數 | Vd = 95.23 |
| 最大直徑 | 440 mm | 紫外品級 | 193-400 nm |
| 可見光品級 | 400-780 nm | 紅外品級 | 0.78-9.00 μm |
昊量光電/星朗浩宇CaF2氟化鈣晶體
CaF2晶體：為您的光學挑戰量身定制解決方案。
作為半導體行業微光刻光學的既定標準，CaF2晶體在光學精度方面樹立了新的標準。其好的性能，如在紫外線、可見光和紅外光譜中廣泛透射，以及對環境影響的高度抵抗力，使其成為科研和工業中要求高的應用的理想選擇。
氟化鈣（CaF2）是一種久經考驗的光學材料：
· 寬波傳輸：在紫外、可見光和紅外波段的透射率非常高。
· 低色散：zui大限度地減少色差。
· 對電離輻射的高抵抗：可用于太空環境。
· 低非線性折射率：非常適合高功率激光應用。
· 大直徑：對于要求較高的應用，Max可達440毫米。
· 原材料純度高：我們種植大型高純度單晶氟化鈣。
得益于這些特性，我們的CaF2晶體是以下領域的優選：
· 半導體行業：用于實現高精度的微光刻光學元件。
· 真空技術：適用于惡劣環境的堅固真空窗口。
昊量光電/星朗浩宇CaF2氟化鈣晶體的特點：
特性 | 數值 | 優勢 |
低折射率 | nd = 1.43384 | 非常適合高功率激光應用 |
低光譜色散 | Vd = 95.23 | zui大限度地減少色差 |
在準分子激光光學元件中具有出色的耐激光性 | 193 nm、248 nm | 激光組件使用壽命長 |
從深紫外到紅外范圍的高透光率及寬帶傳輸 | 130 nm 至 8 µm | 在紫外、可見光和紅外范圍內具有優異的透光率 |
半成品可提供尺寸 | Max： 440 mm | 適用于要求苛刻的應用 |
不同應用領域下的產品規格：
一，IC光刻：制造設備
典型尺寸 | 直徑 Max 350 mm，厚度 80 mm | ||
波長 | 248 nm | 193nm | 157nm |
每 10 mm 樣品厚度內透過率 [%] | > 99.8 | > 99.7 | > 99.4 |
折射率均勻性 PV@633nm[ppm] | 1–15（取決于直徑） | ||
應力雙折射 PV@633nm[nm/cm] | 1–20 | ||
氣泡、雜質（ISO 10110-3） | 1/1 ×0.063（典型值） | ||
二，IC光刻：準分子激光器及光束傳輸系統
三，非光刻技術：激光與成像光學
| 典型尺寸 | 直徑 100 mm，厚度 30 mm |
| Max 尺寸 | 直徑 Max440 mm，厚度 80 mm |
| 可選品級 | 紫外品級（UV 級）：193 – 400 nm 可見光品級（VIS 級）：400 – 780 nm 紅外品級（IR 級）：0.78 – 9.00 μm |
| 每 10 mm 樣品厚度內透過率 [%] | > 99.0 |
| 折射率均勻性 PV@633 nm [ppm] | 3 – 20 |
| 應力雙折射 633 nm [nm/cm] | 1 – 50 |
| 氣泡、雜質（ISO 10110-3） | 1/1 × 0.10（典型值） |
該產品光譜透射率
氟化鈣的光譜透射范圍非常寬，從 130 納米到 9 微米（視樣品厚度而定），因此適用于紫外、可見光和紅外光譜范圍內的各種應用。
您在使用我們所提供的材料的產品優勢:
材料尺寸的靈活性: 為您的具體需求量身定制解決方案。
優化性能: 實現非常高的光學精度和效率。
可靠性: 對一種經過驗證且使用壽命長的材料的信任。
質量控制: 所有測量技術均采用激光實驗室設備。
上海市徐匯區虹梅路2007號6號樓3樓
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