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昊量/星朗 定制透射和反射X射線光柵

簡要描述:昊量/星朗 定制透射和反射X射線光柵(個性化定制全場景適配),支持透射式與反射式結構、不同基底和金屬膜層配置,適用于X射線光譜、同步輻射、EUV及高能光束線等應用。

  • 產品型號:
  • 廠商性質:代理商
  • 更新時間:2026-08-06
  • 訪  問  量:55
詳細介紹
品牌昊量光電供貨周期現貨
應用領域綜合產品類型透射式/反射式X射線光柵
柵距范圍40nm-8μm線密度250-50000線/mm
膜層材料金/鎳/鉑/鎢/釕基底材料Si3N4/SiC/Si/玻璃
膜厚范圍50nm-1000nm加工分辨率半節距20nm
工作能量20eV-1500keV

昊量/星朗 定制透射和反射X射線光柵

昊量/星朗 定制透射和反射X射線光柵(個性化定制全場景適配)

應用納米工具(Applied Nanotools Inc.,簡稱ANT)成立于2002年,是納米微納加工、集成光子芯片與X射線光學元器件專業代工廠,深耕電子束光刻微納制造領域二十余年,專注為科研機構、光學實驗室、半導體及光通信企業提供超高精度納米結構加工、定制光學器件研發與小批量量產服務,助力前沿成像、傳感、光通信、高性能計算等領域實現技術突破。



該產品簡介一:

是一種允許光線通過并產生衍射效應的光學元件。它通常由一系列平行且等間距的刻線或狹縫組成,這些刻線或狹縫可以透光,而它們之間的區域則不透光。當入射光穿過透射光柵時,光線會在每個刻線或狹縫處發生衍射,形成多個衍射級次。這些衍射光束在空間中相互干涉,形成特定的衍射圖案,從而實現對光的色散和分析。廣泛應用于光譜儀、分光光度計等光譜分析儀器中;也用于干涉測量、全息術等領域中的高精度測量和成像任務。



該產品簡介二:

是一種利用鏡面反射原理使光線產生衍射效應的光學元件。它的表面通常鍍有一層金屬膜或其他高反射材料,以提高反射效率。反射光柵同樣由一系列平行且等間距的刻線或凹槽組成,但這些刻線或凹槽是刻在反射面上,而不是穿透整個元件。當入射光照射到反射光柵上時,光線在每個刻線或凹槽處發生反射和衍射。這些反射和衍射光束在空間中相互干涉,形成特定的衍射圖案。由于反射光柵利用了鏡面反射原理,因此它可以更有效地利用光能,減少能量損失。常用于天文望遠鏡、激光測距儀等高精度光學儀器中;也適用于大型光學系統中的光束控制和校準任務。


定制用于極紫外光和高能X射線系統的透射光柵。我們的直接寫入、快速穿插工藝允許從數百微米到毫米的更高分辨率光柵。各種金屬可以在 Si3N4、SiC 或Si 的薄膜上制造。


該產品簡介三:

針對 X 射線波段設計的衍射光學元件,利用周期性微納結構對 X 射線發生衍射、分光、偏轉、調制,核心分為透射式和反射式兩大類。透射 X 射線光柵是X射線直接穿過光柵基底完成衍射的,可用于軟X射線、X 射線成像、光譜探測、脈沖整形等。反射X射線光柵是 X 射線以掠入射角度打在光柵表面,反射后發生衍射,主流用于同步輻射、X 射線光譜儀、EUV、高能光束線。


該產品的優勢


·高分辨率

分辨率可達半節距 20 納米,等效 50000 線對/毫米。

·定制膜方案

光柵可以制造在硅基或玻璃基材上。對于透射光柵,可用的基材包括薄層氮化硅、碳化硅或厚度在50 納米至1000 納米之間的硅膜,基材可以根據應用需求選擇。

·高深寬比

高分辨率直寫圖形工藝可制備定制化結構及適用于硬 X 射線領域的高效率光柵。支持金、鎳、鉑、鎢等金屬材料,可實現正膠圖形與負膠圖形兩種光刻模式。

·定制化應用

我們的定制光柵可應用于同步輻射裝置及實驗室設備,適配多種使用場景。


柵格設計參數展示(可根據要求定制設計)

器件

基底材料

膜厚度

柵距

線密度/mm

刻線與縫隙/mm

膜層

面積

設計工作能量

500um-80nm-鎢

100nm

80 nm

25000

12500

50-100納米氮化硅

500微米×

500微米

200-1000 eV

500um-80nm-鎢

55-150 nm

40 nm

50000

25000

50-100納米碳化硅

500微米× 500微米

20-1000 eV

1000um-80nm-鎢

100nm

80 nm

25000

12500

50-100納米氮化硅

1000微米× 1000微米

200-1000 eV

500um-50nm-金

150-200 nm

50 nm

40000

20000

50-100納米氮化硅

或碳化硅

500微米×

500微米

200-1500 keV

1000um-50nm-金

150-200 nm

50 nm

40000

20000

50-100納米氮化硅或碳化硅

1000微米× 1000微米

200-1500 keV

2mm-2um-金

4-5μm

4μm

500

250

100-1000納米氮化硅或碳化硅

2毫米×

2毫米

3-12 keV

4 mm-2um-金

4-5μm

4μm

500

250

100-1000納米氮化硅或碳化硅

2毫米×

2毫米

3-12 keV

2 mm-4um-金

6-8μm

8μm

250

125

硅或硅片

2毫米×

2毫米

8-20 keV



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